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專注光學(xué)與運動控制解決方案-詳述MKS產(chǎn)品在半導(dǎo)體中的廣泛應(yīng)用

更新時間:2023-04-21      點擊次數(shù):648

MKS 公司專門從事光學(xué)子系統(tǒng)的設(shè)計和制造,并為晶圓和分劃板檢測工具制造商設(shè)計和制造光學(xué)組件,這些制造商往往都青睞來自 MKS 的精密光學(xué)元件。ISB 部門曾設(shè)計和制造用于光刻、晶圓檢驗、準(zhǔn)分子和EUV 光源、計量和掩模書寫等應(yīng)用的光學(xué)子系統(tǒng),圖 1 展示了 ISB 生產(chǎn)的用于晶圓檢測工具的照明器使用的定制光學(xué)組件。


MKS 精密光學(xué)制造部門為 OEM 客戶生產(chǎn)先進的光學(xué)產(chǎn)品,如透鏡、反射鏡、窗片、分束器、波片、濾光片和偏振片等,這些器件經(jīng)過高精度表面拋光,具有嚴格的不均勻性、表面粗糙度和表面技術(shù)參數(shù),而這些都經(jīng)過了先進的計量設(shè)備驗證。薄膜鍍膜經(jīng)過工程設(shè)計具有較寬的光譜范圍(DUV - VIS - IR),采用多種沉積方法制備寬帶、窄帶和多波段的抗反射膜、反射膜、濾光鍍膜和偏振鍍膜,并通過精密的鍍膜計量工具對這些器件進行驗證。

MKS Spectra-Physics® 品牌提供高性能、可靠的激光系統(tǒng),同時有應(yīng)用工程師團隊和響應(yīng)全球的支持組織提供技術(shù)支持。光物理激光器廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)制造應(yīng)用,包括立體光刻、快速成型和激光沖擊處理。


外腔半導(dǎo)體激光器 (ECDL) 是一種窄線寬 ( 約為100 kHz) 可調(diào)諧頻率光源,可用于半導(dǎo)體晶圓的激光反射和干涉測量。MKS 為OEM 提供工程支持,可根據(jù)客戶的需求定制這些光源,例如機械和光學(xué)再設(shè)計、形狀因子修改、光纖耦合、光學(xué)隔離器的添加、無跳模調(diào)諧范圍的擴展、電子集成、速度調(diào)諧或線性度調(diào)諧的優(yōu)化等。圖 2 所示為半導(dǎo)體制造設(shè)計的ECDL 模型,TLB- 8800 可調(diào)諧激光器采用 Littman-Metcalf 設(shè)計,針對激光掃描和反射測量計量優(yōu)化,可提供超快音圈電機調(diào)諧( 調(diào)諧速度達2000 nm/s,20000 nm/s 可選) 用于高重頻快速分析,如調(diào)諧速度10000 nm/s、無跳模調(diào)諧范圍 100+ nm 時重頻可達 30 Hz。TLM-8700 是 TLB-8800 的 OEM  版本,結(jié)構(gòu)更加緊湊。

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MKS Newport 品牌功率計和光電探測器提供 ISO-9001 或  ISO-17025 認證的 NIST 可追溯校準(zhǔn),以盡可能精確地測量功率和能量( 見圖 5)。這些器件是為 OEM 應(yīng)用定制,并作為目錄產(chǎn)品供貨用于研發(fā)應(yīng)用。光電二極管 (818 和 918D 系列)、熱電堆 (919P) 和焦熱電 (919E) 探測器將入射光子轉(zhuǎn)換成可測量的電信號,由兼容的功率表讀取,根據(jù)探測器的響應(yīng)度進行校正,并顯示為測量功率。我們的探測器多種型號,可適用于大多數(shù)應(yīng)用,包括經(jīng)過客戶啟發(fā)研發(fā)的僅 5.4 mm 厚 的 818-ST2 系列筆式探測器,積分球探測器 (918D-IS、819C 或 819D) 與大多數(shù)光纖連接器類型兼容,其入射到探測器有效區(qū)域內(nèi)的光更加均勻,進一步降低了測量不確定性。

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MKS 光束分析儀系列產(chǎn)品提供了廣泛的光束分析設(shè)備和多種不同級別軟件 (Newport LBP2TM 軟件或 Ophir、BeamMicTM、BeamGage 和NanoScanTM)。CCD 相機加光束采樣系統(tǒng)可用于功率為 10 mW—400 W 激光的光斑分析,紫外成像儀可將 VIS 型號可檢測波長范圍擴展至 190 nm—1100 nm,反 Stokes 磷光濾光片因 IR 型號波長范圍可以擴展至 1440 nm—1605 nm (見圖 7).

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圖 7 LBP2 系列激光束輪廓儀


圖 8 為 MKS 軟件生成的三維圖形,展示了用于切割有源電路的脈沖 Nd:YAG 激光器的功率強度分布。


MKS 光學(xué)隔振解決方案可基于應(yīng)用定制,可提供真空兼容或潔凈室兼容產(chǎn)品。我們的潔凈室兼容光學(xué)平臺將剛性桁架蜂窩結(jié)構(gòu)與創(chuàng)新的調(diào)諧阻尼相結(jié)合,在生產(chǎn)過程中,錐形孔陣列在裝配環(huán)節(jié)被密封在保護膜中,以防止污染物滲透,這種潔凈度和穩(wěn)定性決定了前沿應(yīng)用的成敗。性能指標(biāo)和基本結(jié)構(gòu)與 RS 4000 系列調(diào)諧阻尼光學(xué)平臺相同,采用 6 個調(diào)諧質(zhì)量阻尼器有選擇性地消除扭轉(zhuǎn)和彎曲變形。MKS 還提供了潔凈室兼容  S-2000AC 隔振腿,用于隔振及氣動自平衡( 見圖 9)。


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圖 9 UCS 潔凈室兼容性光學(xué)平臺臺面和 S-2000AC 隔振腿。




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